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機械化學研磨
發(fā)布日期:2016-09-13 11:15:47
機械化學研磨是在相對運動的兩個物體的接觸點上產生固相反應,生成了反應生成物,出現(xiàn)原子級的脫落,從而實現(xiàn)加工目的。目前,人們所進行的機械化學研磨加工研究,主要是針對具體加工對象的應用研究。日本崎玉大學的土肥俊郎從事超大規(guī)模硅芯片機械化學研磨加工研究,取得了相當好的結果,工件已加工表面粗糙度最高達1nm,平面度1-3μ;崎玉大學的河西敏雄研究了機械化學研磨加工,也取得了很好的效果,加工后的表面粗糙度為Ry0.1-0.3nm;森山茂夫等人研究了機械化學研磨加工半導體材料;田村利夫等人研究了機械電化學加工黑色金屬;Hara等人研究的是利用這一加工方法提高反射鏡的質量和加工效率。這些研究促進了機械化學研磨法的廣泛應用,使這一加工方法更加完善。